三星与SK海力士计划升级中国工厂生产先进存储芯片

路透社报道,三星电子和SK海力士正加速升级中国工厂,计划在中国生产超过200层的NAND闪存芯片。这两家韩国企业此前因美国出口管制政策陷入困境,如今通过与华盛顿方面密切磋商,逐步推进技术升级。
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路透社报道,三星电子和SK海力士正加速升级中国工厂,计划在中国生产超过200层的NAND闪存芯片。这两家韩国企业此前因美国出口管制政策陷入困境,如今通过与华盛顿方面密切磋商,逐步推进技术升级。

三星西安工厂目前生产约200层NAND芯片,占其全球产量40%。该公司正在改造该工厂,目标是2027年前将月产量从5000片晶圆提升至4万片。SK海力士大连工厂则计划转向生产240层以上产品,目前该厂主要生产192层芯片。

市场数据显示,中国本土企业长江存储今年第二季度NAND闪存市场份额已达38.5%,超过三星和SK海力士。三星在海外销售最高达286层芯片,SK海力士则销售321层产品。两家公司均表示升级符合美国出口管制规定,但未提及扩大产能。

SK海力士正就美国建厂计划与特朗普政府接洽,同时寻求在大连开展300层芯片研发。该工厂2021年收购英特尔NAND业务后,成为其唯一制造基地,现正筹备IPO。两家公司均强调,升级旨在满足全球客户需求,尤其是美国市场。

在地缘政治压力下,韩国半导体巨头正通过技术升级维持竞争力。中国市场的技术突破与产能扩张,或将重塑全球存储芯片产业格局。